韩伊化妆品怎么样（韩伊皙白防晒霜怎么样）

　　炎炎入伏天，暴烈阳光会对头发造成伤害，除了上发型屋定期做护理，日常选购具有洗护功效的洗发水也是补救秀发的方法。不过，洗发水品牌繁多，各类洗护概念大行其道，消费者时常听从广告词的鼓动，或者跟随包装诱惑随手购，真实情况可能了解甚少。
　　2014年6月，《消费者报道》选择了潘婷、力士、多芬、伊卡璐、美涛、巴黎欧莱雅、韩伊、万宁、屈臣氏、蜂花等10个品牌的洗护洗发水，进行防腐剂、清洁有效物、柔顺剂及可能致癌物丙烯酰胺等指标的测试。
　　第三方权威检测机构检测结果发现，在安全性方面，韩伊洗发水当中的两种防腐剂甲基异噻唑啉酮（MIT）和甲基氯异噻唑啉酮（CMIT）复配物含量为28。9ugg，超标近两倍，可能易引发过敏；同时并检出可能致癌物丙烯酰胺，疑似添加了业内早已淘汰的增稠剂。
　　致敏防腐剂再追踪
　　2014年3月，《消费者报道》曾送检9品牌去屑洗发水，在安全性方面，检测了洗发水中常见的两种防腐剂甲基异噻唑啉酮（MIT）和甲基氯异噻唑啉酮（CMIT），以了解它们可能带来的皮肤过敏风险。（详见本刊《9品牌洗发水检测报告一：防腐剂含量清扬和飘柔较高恐易引发皮肤过敏》）
　　2006年，MIT作为化妆品防腐剂开始进入市场，因其具有光谱杀菌性能，自此被广泛使用。最近，皮肤病学出版物关于因使用化妆品引起皮炎的患者对MIT出现阳性和相关斑贴试验反应的临床证据报道量急剧增加。欧洲化妆品个人护理用品协会对此高度重视，并在原料供应商和化妆品制造商等专业人士的支持下，对MIT的临床、毒理和化妆品警戒数据进行了全面审查；它还通过一种被称为定量风险评估针对过敏原的技术手段更新了MIT的风险评估。
　　2014年2月18日，欧盟委员会已向世界贸易组织（WTO）发布通告，限制甲基异噻唑啉酮（MIT）和甲基氯异噻唑啉酮（CMIT）作为防腐剂在清洗型化妆品中使用，因其可能引起皮肤过敏。
　　本刊此次送检的10品牌洗护洗发水，再将这两种防腐剂纳入检测项目，并选择仪器灵敏度更高的检测手段（检出浓度可达1ppm）进行检测，以确定MIT与CMIT的复配物（凯松）添加量是否超标。
　　根据中国卫生部《化妆品卫生规范（2007年版）》规定，MIT单独在化妆品中最大允许使用浓度为0。01（100ppm）；而CMIT和MIT的混合物在化妆品中最大允许使用浓度为0。0015（15ppm）（以CMIT和MIT为3：1的复配物计）。
　　本刊此次送检第三方权威检测机构主要按照以上标准方法进行检测。从10品牌洗护洗发水的检测结果来看，韩伊洗护系列中的MIT和CMIT复配物为28。9ppm，超出标准近两倍，而且其外包装中的成分表也没有标示出这两种成分。（如下图）
　　广东省微生物研究所研究员谢小保曾告诉记者，复配物的过敏反应概率更高。香港医院药剂师学会会长崔俊明更是呼吁，湿疹或皮肤过敏患者不要使用含MIT或CMIT的产品。
　　《消费者报道》记者就此结果采访生产韩伊洗护系列的广东雅威生物科技有限公司，至发稿时相关负责人并未予以回复。
　　检出可能致癌物丙烯酰胺
　　除了防腐剂凯松超标，韩伊洗发水中还检出了可能致癌物丙烯酰胺。
　　一般用于工业和城市污水净化处理的聚丙烯酰胺，因具有增稠作用，可使化妆品质更佳，也被商家添加在化妆品当中。
　　台湾化妆品成分专家林志青告诉本刊记者：聚丙烯酰胺与水混合后，呈现透明凝胶状，多用于提高产品如精华液或乳液的外观效果。其本身及水解体没有毒性，但由于聚丙烯酰胺不稳定性，会自然分解变回丙烯酰胺单体，而丙烯酰胺是一种神经毒素及可能致癌物质，因为这种高分子材料也运用于一般的护发素或护肤品等，因此会增加人体致癌的风险，所以基本上厂商都已放弃使用了。
　　早在20世纪50年代，科学家通过职业人群暴露和动物实验研究发现，丙烯酰胺会导致动物共济失调、骨骼肌萎缩、体重减轻等神经性综合征，而且还会阻碍神经损伤的恢复功能。而国际癌症研究机构1994年对丙烯酰胺致癌性进行了评价，将其列为2类致癌物，即人类可能致癌物。
　　根据中国卫生部《化妆品卫生规范（2007年版）》规定，驻留类护肤产品中，丙烯酰胺单体最大残留量为0。1mgkg，其他产品的最大残留量为0。5mgkg。本刊此次送检结果显示，韩伊洗护系列洗发水检出了0。24mgkg的丙烯酰胺，巴黎欧莱雅则0。025mgkg，均符合标准。
　　林志青表示：检测出丙烯酰胺的产品均在合格范围内，且淋洗类化妆品会在短时间内被冲洗掉，与皮肤接触时间短暂，根本没有机会吸收。政府定出质量规范是为了加强这些化妆材料工厂重视产品质量，透过化妆品规范约束制造商。
　　从检测数据来看韩伊洗发水的生产企业很有可能添加了聚丙烯酰胺。化妆品业内人士，真魅博客创始人瑞可表示，这成分主要用于工业用途，在化妆品中不会单独使用，也有极小的可能是由于配方中的聚合物带入，虽然大部分用于洗发水的聚合物没有丙烯酰胺单体残留。