做为国内最大也是最先进的半导体制造公司，中芯国际在先进工艺上的进展引人关注，其中  7nm   及以下节点非常重要，这还牵涉到  EUV   光刻机。
　　日前有股民在互动平台上询问，称有报道指出中芯国际不用  EUV   光刻就攻克了类  7nm   工艺，要求中芯国际澄清。
　　对此，中芯国际表示，公司不针对传言进行评论。
　　从中芯国际官网的介绍来看，该公司提到的最先进工艺还是  14nm   ，接下来的是  N+1   、  N+2   工艺，但没有指明具体的工艺节点。
　　中芯国际联合  CEO   赵海军曾表示，经过三年的积累，  FinFET   工艺已经取得了不错的成绩，  N+1   已经进入了风险量产，但是在外部因素的影响下，去年四季度起  FinFET   的产能利用率不足，爬坡需要时间，营收奉献尚未达到预期水准，折旧又对公司整体的盈利造成了负担。
　　【来源：快科技】【作者：宪瑞】

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