中科院立功！国产光刻机正式传来好消息，该来的总会来

　　我们知道，因为ASML所制造的光刻机，使用了一部分来自于美国的技术，受此影响，那么芯片代工厂就无法为华为生产芯片。
　　目前华为最先进的芯片，还是停留在麒麟9000，采用台积电5纳米工艺，随着时间的推移，华为的麒麟9000芯片也越来越少，目前只能购买高通的4G芯片来继续发展旗舰机型。
　　因此我们看到，光刻机在芯片制造领域非常重要，目前我们国产的光刻机，只能生产90纳米芯片，下一步要突破的就是28纳米。
　　可以说，如果解决了28纳米光刻机的问题，那么我们就可以自主生产大部分芯片，因为要采用先进工艺的芯片很少。
　　相信大家还记得，在2020年时，中科院白春礼院长表示，将部署光刻机等卡脖子领域攻关，现在我们在中科院官网依然可以看到这篇报道。
　　而根据目前刚刚发布的最新信息来看，中科院似乎已经迈出了关键一步。国产光刻机正式迎来了好消息
　　根据媒体报道，北京国望光学的生产基地项目，已经进行了中标候选人公示，该生产基地项目，就是投影光刻机曝光光学系统研发及批量生产基地。
　　据悉，该项目将在2023年投入运行，届时将可以提供包括28纳米及以下工艺等在内的光刻机曝光光学系统产品。
　　所谓的光刻机曝光光学系统，我们可以简单地理解成是光刻机的曝光镜头，当然曝光系统要复杂得多，这里是为了便于理解，该部分的难点在于提升镜头的数值孔径，因为数值孔径越大，那么就可以支持光刻机生产更先进工艺的芯片。
　　很显然，这次国望光学的生产基地即将开始建设，而且2023年就将可以量产供货，那么我们的国产光刻机，就有望升级到28纳米，甚至更加先进。
　　而28纳米光刻机，通过多重曝光和利用3D先进封装工艺，在芯片的性能上，就有可能打造出媲美7纳米工艺的水平。
　　不仅如此，上面我们看到，国望光学即将量产的产品，除了28纳米，还有28纳米以下的产品，所以很有可能推出14纳米，甚至是7纳米的产品。
　　总之，现在我们已经可以期待，我们的国产光刻机迈出了关键的一步，而这关键的一步，离不开中科院多年的努力。
　　很多朋友不理解了，这跟中科院有什么关系呢？
　　其实有直接的联系，国望光学是长春国科精密的大股东，100的控股，然后下面我们就要简单地讲一下历史。
　　在2009年，启动了高NA浸没光学系统关键技术研究，这是02专项核心任务光刻机项目群的核心攻关项目，由中科院长光所、上光所和光电研究院来联合攻坚。
　　最终该项目在2017年被验收，验收的地点就是长春国科精密。
　　而曝光光学系统研发核心的骨干人员，也在2017年转入到长春国科精密，至此开始走向企业化运行。
　　紧接着，在2018年，上海微电子，也就是我们的光刻机整机集成制造厂，就到访了国科精密，之后的交流座谈则是在长光所举行。
　　也就是说，我们的光刻机整机厂上海微电子，一直关注着国内光刻机关键供应商的发展情况，而且彼此之间的合作非常密切。
　　所以我们更能期望，一旦国望光学的曝光系统实现交货，那么上海微电子的光刻机就有望迅速升级。
　　届时，答案就会揭晓，到底最终我们的国产光刻机可以进步到多少纳米工艺，或许下一步就是突破EUV，对此大家怎么看呢？